JX金属は26日、新規事業分野の育成のため、2月1日付で技術本部技術戦略部内に「CVD(化学気相成長法)・ALD(原子層積層法)材料事業推進室」を設置したと発表した。同組織では、次世代半導体向けCVD・ALD材料の開発テーマ探索から量産化までを一貫して担い、早期事業化を推進する。 同社の主力製品の一つである半導体用スパッタリングターゲットは...