ＪＸ金属は２６日、新規事業分野の育成のため、２月１日付で技術本部技術戦略部内に「ＣＶＤ（化学気相成長法）・ＡＬＤ（原子層積層法）材料事業推進室」を設置したと発表した。同組織では、次世代半導体向けＣＶＤ・ＡＬＤ材料の開発テーマ探索から量産化までを一貫して担い、早期事業化を推進する。　同社の主力製品の一つである半導体用スパッタリングターゲットは...