ＪＸ金属は２６日、ひたちなか新工場（茨城県）の開業式を開いた。半導体用スパッタリングターゲットを生産する薄膜材料工場の建屋が完成し、溶解工程で使用する溶解炉が試運転を開始した。溶解以外の工程の能力増強も決めており、２０２７年度下期から稼働させる。今後も半導体用ターゲットの増強や先端素材分野での新規事業のための投資を視野に入れる。林陽一社長は...