新金属協会の定めたシリコン・エピタキシャル（エピ）層の電圧測定による抵抗率測定方法がＳＥＭＩ規格となった。これまではそれぞれのメーカー規格によって測定されており、同協会は標準化の実現を目指していた。活動が実を結び、今後は国内業界団体の定めたものが国際標準として統一される。　エピ層の抵抗率は半導体デバイス設計の必須パラメータでデバイス性能に影...