東工大など/窒化アルミスカンジウムで強誘電性の高い薄膜を作製/不揮発性メモリへの応用期待
東京工業大学などの研究グループが、強誘電体の窒化アルミニウムスカンジウム(AlSc)において、スカンジウムを低濃度にすることで従来よりも高い強誘電性を発現する膜を作製したと発表した。さらに10万分の1ミリメートル(10ナノメートル)以下の窒化AlSc薄膜でも強誘電性を示すことを世界で初めて確認した。単純な構造で強誘電体の膜が作製できるためコ...
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