田中貴金属工業は２３日、半導体の微細化と耐久性向上に寄与する新たなルテニウム（Ｒｕ）成膜プロセスを確立したと発表した。薄い酸化防止膜を水素成膜で作り、高品質のＲｕ膜を酸素で成膜する２段階の成膜プロセスで、酸素による基板の酸化防止と同時に、水素成膜によって起こるＲｕの純度低下も抑制することができる。データセンターやスマートフォンのほか、ＩｏＴ...