JX金属グループのタニオビス/次世代半導体材料を開発・量産へ/独ゴスラー拠点に設備導入
JX金属は13日、グループ会社のタニオビスがドイツ・ゴスラーの拠点に次世代半導体向けCVD・ALDプリカーサ材料の開発・生産が可能な設備を導入し、稼働を開始したと発表した。先端半導体需要の高まりを受け、半導体内の極めて薄い膜の生成や微細配線の形成に利用される高純度CVD・ALDプリカーサ材料の引き合いが増えていることに対応し、開発および供給体...
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